，本身精度非常低，要用来生产14n的芯片，需要就过多重复杂的技术增加精度。
    传统工艺，做到10n，已经基本上是极限了，想要继续下探，到，就必须换新技术。
    这个新技术，也就是tel、三星、台积电，都在等着euv极紫外光刻技术。采用波长135n的极紫外光为工作波长的投影光刻技术
    因为更高的精度，可以大大减少工艺流程和复杂度。
    所以如果euv光刻技术能够成熟，并且投入量产，芯片的生产时间，将会大幅缩短，产品良率也会提高很多。
    按照现在的预计，使用euv技术的工厂，最快可以做到20多天出厂，时间只有传统光刻技术的四分之一。
    但是目前evu技术并没有成熟，仍然有多个关键问题没有解决。
    tel、三星、台积电半导体三巨头，投了巨额资金，给全球顶级的光刻机厂家asuv技术，以期维持半导体行业的持续发展。
    euv技术是延续摩尔定律，让工艺，成功量产的希望。
    而且，euv技术，也是东华国内半导体制作技术，实现弯道超车的机会，超越国际的难得机会。
    在传统工艺上，东华已经难以超过西方了，即便
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