设置

关灯

第一百八十五章:N-漂移层

   而且似乎还是一种可以应用到芯片基座上注入离子层的方式。
    和韩元手中没有关键性的仪器不同,有实力复核他的实验的国家和实验室手中基本都有相应的实验仪器和鉴定仪器。
    更关键的是,他们还拥有足够的人手。
    可以一边完全按照直播进行复刻实验,另一边则将阶段性的成果拿到专业的检验仪器上进行鉴定成果。
    华国,京城,一间实验室大门被人匆忙推开,一个青年手中拿着一叠a4纸张匆忙的闯了进来。
    都来不及喘息,青年就扬起了手中的资料大声喊道。
    “组长,碳化硅晶材铝离子的渗透检测........结果出来了,这结果....结果太不可思议了。”
    从呼吸的急促就可以判断出来,这个青年是一路跑过来的。
    灯光明亮的实验室中,听到声音后,另一名正在按照直播进行再次掺杂铝离子的中年男子迅速起身走过去,从青年手中接过资料翻阅了起来。
    “一次渗透率为1.01325×10-15md。”
    “二次渗透率为1.78314×12-15md。”
    “........”
    “一次渗透碳原子的dpa为18.3.......。”
 <本章未完请点击"下一页"继续观看!>