次重复处理。
    尽管掺杂法需要多次电解掺杂和淬火，而且在均匀性和深度上远远无法和离子注入相比。
    但对于目前的他来说，这是最合适，也是最简单的办法了。
    随着酒精灯的不断加热，溶液中的水分被不断的蒸发掉，容器中的铝离子溶液也逐渐开始变得粘稠。
    等到溶液已经无法覆盖碳化硅晶体基底的时候，韩元断掉了电源，将玻璃容器中的碳化硅晶材取出来，又倒掉已经被电解过的铝离子溶液。
    碳化硅晶材清洗干净，然后吹干，重新刷上一层石蜡镀层，再次进行掺杂注入。
    按照标准流程，以他制造出来的铝离子溶液的浓度需要进行重复六次的掺杂注入才能在碳化硅晶体底层形成一层可用的n-漂移层。
    所以他还需要再重复五次掺杂注入，耗时最少要五个小时以上。
    一下午，韩元就守在了化学实验室中，不断的重复着铝离子掺杂的过程。
    当然，大部分的普通人对于这种事情看一遍看个新鲜也就差不多了。
    不过直播间里面蹲守的那些科学家感兴趣的，其实也正是这个。
    尽管离子掺杂技术在目前已经很成熟了，但韩元改进的‘电-热离子渗透法’却是一种全新的方式。
 
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