要拔出这个顽疾而不得！
    而生产芯片有两大难关，蚀刻机与光刻机，在蚀刻机方面中国要优秀的多，在08年就由中微制出了高性能蚀刻机，然后一路突飞猛进，最终凭借先进的技术居于全球前三。
    中微半导体的介质刻蚀机更是胜过美国人的产品进入台积电7nm、10nm的生产线，甚至已经具备了5nm工艺制造技术。
    也正因为李秀成清楚蚀刻机发展的始末，知道有哪些最关键的人才和技术，才这么有把握让机械厂进入这一行，并做出成绩。
    相比蚀刻机的优秀表现，光刻机方面就真的是一言难尽了，21年时，有国家院士说过，我国光刻机方面与外国先进的相比差距在15-20年。
    但许多人都不知道的是，在最开始国内光刻机技术与国外差距并不大，在85年时国家研究所研制出的分步光刻机样机与美国4800DSW的水平相差不到7年。
    7年与20年相比，这中间的差距多大？在这个全民奋进，英模呕心沥血创奇迹的年代真不算大！
    但没过多久，随着大量引进外资，一个‘造不如买’的畸形观念悄悄的观变了人们的思想，然后就是‘造导弹的不如卖茶叶蛋的’可笑价值观出现了。
    最
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