极紫外光刻机……
    比如激光发射机，比如光刻胶，等等等等。
    需要攻克的技术难关，可就太多太多了……
    这些，杨明何尝不知？
    毕竟若非如此，洋人也不至于需要集合包括霉帝，大阴，得国，河岛，荷兰等十数个国家的科研力量，数万名科研人员一起努力，才研制出EUV光刻机，来用它卡国内芯片的脖子了。
    不过难归难，但杨明却还是有信心。
    毕竟现在西方连浸入式60纳米精度光刻机都还没搞明白。
    如果没有自己，他们还得在八年后，也就是2002年才能将浸入式60纳米光刻机制造出来。
    至于极紫外光刻机。
    他们得到2005年才能确定研发方向，等荷兰阿斯麦公司集十数个国家科研力量研发出EUV光刻机的时候，那更是2010年之后的事情了。
    自己有足足近十五年的时间！
    而且除了时间之外，他还有记忆中历史上，国产光刻机从不曾拥有过的东西。
    比如华芯所带来的国产光刻机大范围应用，使光刻机但凡研发出来，便再也不至于如历史上一般根本没有用武之地。
    比如因为华芯对于最高端光刻机的需求，从而带动的国家在相关人才
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