一条消息。
    那就是经过足足七年的努力，华荣高科不但已经攻克了165纳米这个困扰芯片光刻技术多年的极限点，而且一下将光刻精度提升到了60纳米！
    听到这个消息，国内很多科学方面的专家就第一个跳出来表示这不可能。
    毕竟别说据他们所知，即便是如如西门子，高通等等国际光刻巨头，目前都仍旧卡在165纳米关口这点，就说技术规律……
    即便攻克了165纳米，纳米接下来按理也该攻克140纳米，115纳米……
    循序渐进。
    一下就将精度提升一百多纳米，达到60纳米……
    这简直不科学！
    也是因此，不知道多少科学家联名上书，要求华荣高科公布相关论文，以证实技术的切实性。
    山呼海啸般的质疑和呼吁，不但让华荣高科方面承受着巨大的压力。
    同时更让不知道多少对杨明心怀不满之人暗自幸灾乐祸，心说让你丫狂，现在倒血霉了吧？
    但自始至终，杨明都不为所动。
    毕竟科研这东西，只要掌握好节奏，有时候快一步，那就能步步快！
    而且华荣之所以能攻克光刻165纳米的极限，靠的也不是什么技术革新，单纯就是在原深紫外
 <本章未完请点击"下一页"继续观看!>