究所，他却是想不知道都难。
    之所以知道，不仅仅是因为列别捷夫乃是近代最知名的物理学家之一，他的研究发现，几乎改变了近代物理对于光压研究相关的认知这点，更多的还是因为这个实验室的研究，对近代半导体的发展，有着革命性的影响。
    别的不说，就说即便现在，列别捷夫研究所在半导体相关技术方面，都还有数项专利，处于全球绝对领先的地位！
    除了半导体，其在原子能的利用，以及光刻技术，也都是处于世界领先水平。
    以光刻机为例。
    别看现在华芯已经在研究通过放电汞灯辐射紫外将光刻精度从365纳米降低到250纳米，霉帝等国虽然没有宣布，但按照推测，他们可能已经实现了相关方面的研究突破。
    而且在250纳米精度被攻克之后，杨明还有一个通过历史记忆得知的，可以在对传统工艺不做太大改变的前提下，实现将光刻精度从250纳米提高到数十纳米精度的工艺。
    这个工艺，就是沉浸式光刻！
    三十多年后，世界光刻精度依旧还被卡在几纳米的关头上，再无进步。
    现在就已经基本掌握了将精度达到几十纳米的工艺，看起来的确是无比的高端大气上档次……
    可
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