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第574章 阶段性研发目标

,光刻芯片的特征尺寸依旧在微米级,但如果采用深紫外波段准分子激光的话,那制成的芯片特征尺寸,则就进入了纳米级!
    微米到纳米!
    听到杨明所颁布的阶段性攻关目标,众人的脸上纷纷露出了可能被外行指挥内行的疑虑。
    毕竟不说据他们所知,杨明对光刻相关技术虽然有极高的热诚,但在根本上就是个小白。
    所以从开始讨论这个话题,他们便处处对杨明进行照顾,尽可能的采用一些但凡上过三天幼儿园就能听懂的语言进行描述,生怕杨明听不懂这点,就说现在!
    连电汞灯辐射250紫外光的相关研发都没完成,杨明却要求用深紫外波段准分子激光,直接将特征尺寸从微米挑进纳米,那等于什么?
    如果用小孩学步来形容,那就是连爬都没学会呢,就得先让人跑 ——那能跑的起来么?
    科学这事,终究还得遵循基本规律。
    要光凭听说过几个什么纳米啊微米的名词就脑袋一拍屁股就能成事,那就不是科学!
    这,就是在场一众听到杨明提出的阶段目标时心里的想法。
    对于众人可能在心底的鄙视,杨明并不在意。
    毕竟自己是光刻方面的小白这点,那是事实。
    但要
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