紫外光，也是最先进的‘euv光刻机’上使用的光源。
    这种光源的波长能控制到十纳米，已经是极限了。
    不过利用平滑衍射效应、光强调节等复杂的曝光控制系统，它能对低于十纳米的曝光区域进行曝光雕刻处理。
    这也是为什么十纳米的波长光源能生产出五纳米芯片的原因。
    但皮米级的芯片，光源的波长恐怕得控制在一纳米以下。
    一纳米的光波长度啊，听起来就让人感觉匪夷所思不可思议。
    要知道一个光子能量的多少与波长和频率相关，波长越短，频率就越快，能量越高。
    频率越快，能量越高，对光源的控制和收集也就越难。
    就目前的极紫外光，光源工作时，需要以5万次/秒的频率，用功率20千瓦的激光来击打真空中20微米大小的锡滴，使液态锡汽化为等离子体，从而产生波长短的极紫外光。
    而产生还只是第一步，产生之后，这些波长极端的光源会在真空中乱跑，还需要再将这些极短波长的极紫外光进行收集集中，变成可用于雕刻的光刀。
    说实话，光是这些，这已经可以说是突破了人类脑洞的技术了。
    紫光是所有光波里面波长最短的光波，越是靠近紫光，波长越
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