PAS5500不仅为ASML公司带来台积电、三星和现代等关键客户，凭借PAS5500的优势持续获得客户的认可，也为ASML公司带来了市占率的持续提升和丰厚的盈利。到1994年时，ASML公司在全球光刻机市场的市占率已经提升至18%。
    一切的转折点，始于ASML公司在浸没式光刻技术上的成功，这让它一举击败尼康等头部光刻机厂商，成为全球光刻机市场的龙头老大。
    在2000年之前，光刻设备中一直采用的是干式光刻技术，直到2002年，时任台积电研发副总的林本坚博士提出了浸没式光刻机的设想，这一方案若能够成功，便能够解决光刻机光源波长迟迟无法越过193n的业界难题。
    为此，林本坚找了许多半导体巨头，希望能够合作，其中便有当时光刻机最大的厂商——尼康。
    但是，尼康拒绝了他，毕竟当时正是各个光刻机厂家竞争的关键时刻，尼康不敢去尝试新方案，新方案一旦失败，便会让尼康错过发展良机从而被美国公司超越。
    最终，ASML公司选择与台积电合作，从而成功的研发出了新型的光刻机。
    得益于193n浸没式光刻机系统在市场大获成功，成为全球领先光刻机厂
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