第542章 芯片的弯道超车机会!
前也不一定。
前一世,林本健是在2002年的一次交流会上公开提出这一理论的,那时候想必他的整个设想与技术分析已经是比较成熟了。
而这样的技术理论研究,自然也不可能是一天两天形成。
现在已经是2001年,也就提前了一年的时间,林本健已经开始在琢磨这方面的技术理论,是完全合理的。
心里这样想着,林晓则是用着好奇的语气问道:“浸入式光刻技术?这是什么?”
“这是我近段时间思考的一项光刻技术。”林本健这时候也解释说道。
“现在我们的光刻技术卡在了193nm,想要突破157nm目前技术上还很难实现。
所以就在想有没有可能不通过光源的突破,而通过浸入式光刻的方式,来跨过这一技术壁垒。如果简单点形容,就是在光刻机透镜与晶圆之间充满水,通过折射实现波长的获得。”
林本健说的这些,其实非常专业,但是林晓一听就懂了。
不仅懂,而且,这就是他一直期盼着的。
所以此时,他也是真心的在问道:“你已经把这项技术研究出来了吗?”
林本健摇了摇头,“只是一些初步的设想。”
不过说完,林本健又语带兴奋
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