概念，让光刻机技术从曾经的干式光刻机突破到了浸润式光刻机，到2004年台岛积电跟阿斯麦共同研发出第一代浸润式光刻机，这才让芯片制程向前推进了一个时代。
    现在换到宁为这儿，从他上次在央视新闻上露脸，让全国人民都知道华夏有个数学博士开发出了一种新的芯片架构，能够颠覆半导体市场，到昨天他在沃尔夫颁奖典礼上发言声称将新芯片工艺制程突破到65纳米，还不到一个月。
    这足以让大多数人觉得不可思议，到底什么情况？或者说什么情况下，能让一种新技术用不到一个月时间，走完了之前全世界需要五年才能完成的技术飞跃？不是说好了，技术主要是靠累积的么？
    更可怕的是，制造这种新芯片的相关仪器跟设备也没听说过有什么革新啊？生产这种新芯片的设备是哪家公司？有没有上市？这些问题都被提了出来。甚至宁为的那番发言到底是不是信口雌黄？这些问题都在网上被提了出来。
    上一次这种新结构出炉，当天就上了央视新闻，昨天宁为宣称突破了65纳米制程，有没有检测结果支撑？
    也不能说网友们好奇心重，毕竟很多行业内的人事都对宁为的话抱有疑问，更别提还有许多网友正等着一系列的消息公布，好去抄底未来的潜
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